CO2激光应用于光学元件损伤消除

 近红外激光引发光学元件表面损伤是一个常见问题，损伤会快速升级，因为这不是一个阈值事件。确切的说，它可以被描述为在一个光学元件单位面积发现多个损伤部位的概率，作为该光学元件入射通量3ω的函数。一旦损伤出现，它就会变成比较大的尺寸，损伤随入射光通量呈指数级的增长，快速衰减光学效率并使得光学元件寿命衰减。

为减缓或消除这种损伤，利用Access laser大通激光提供的稳定型系列CO₂激光器AL50S，功率稳定度达到±2%，配置line tracker的版本AL50ST功率稳定度可以到达±1%，被用来作为非消融低温退火处理，来加热玻璃回流和局部修复部位。不过，10.6μm的激光器只能修复比较浅的损伤，大概几十微米的损伤部位。

对于更深的损伤， 需要9.3μm波长CO₂激光器，能对500μm深度的损伤有很好的修复效果。

这个过程完全不产生任何碎屑，可以用于抛光和精加工应用。

 

 

Figure 1: CO₂ laser rapidly removes scratches via efficient melting of silica in a localized manner.

         CO₂激光器通过局部有效融化二氧化硅快速消除伤痕。